BAO Mask Avenger 2版本是一款由BAO Plugins出品的AE三維路徑遮罩頂點(diǎn)切線控制插件，可以直接在AE中控制和編輯Mask路徑和遮罩的頂點(diǎn)，而且還可以在3D模式下控制遮罩，而無需使用空圖層和表達(dá)式。然后可以更快地計(jì)算遮罩，并簡化表達(dá)式編寫。

BAO Mask Avenger v2版本的新功能：
公羊預(yù)覽養(yǎng)護(hù)。以前版本的最大問題是Ram預(yù)覽被
插件無效。Mask Avenger 2.0新的烘焙系統(tǒng)避免了這種情況。
3D面具。Mask Avenger現(xiàn)在以3D方式控制遮罩，無需使用空層和表達(dá)式。
然后更快地計(jì)算掩碼，并簡化表達(dá)式編寫。
背景烘烤。當(dāng)需要修改蒙版時，Mask Avenger會在
當(dāng)前時間立即對其進(jìn)行變形，并將工作區(qū)的其余部分在后臺烘烤。這意味著您可以
在Mask Avenger忙于烘焙時繼續(xù)工作。這取代了?動態(tài)?和?烘烤?模式。
更好的形狀層兼容性。與“動態(tài)”模式相關(guān)的錯誤在新的烘焙
系統(tǒng)中消失了。
工作區(qū)和圖層的持續(xù)時間不再影響Mask Avenger的計(jì)算速度。當(dāng)然，
烘焙 100,000個關(guān)鍵幀需要比10個更長的時間，但新的烘焙系統(tǒng)允許您在
烘焙的同時繼續(xù)工作。
不再需要Mask Renderer。Mask Avenger現(xiàn)在使用AE自帶的遮罩功能，運(yùn)行速度更快。
蒙版預(yù)覽。
Mask avenger 2.0有一個預(yù)覽系統(tǒng)，可以在更改應(yīng)用于蒙版之前動態(tài)地向您顯示更改。這避免了當(dāng)蒙版被表達(dá)式、其他圖層或相機(jī)修改時的延遲。

【插件要求】
插件語言：英文
插件兼容：After Effects CC 2023,2022,2021,2020,2019,2018,2017,2015,2014,CC,CS6 支持Win與Mac系統(tǒng)
使用幫助：帶英文視頻幫助教程

【效果視頻】

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